超声波清洗在硅片行业的应用也是很广泛的，半导体材料的制作过程中，每一个过程包括清洁，清洗直接影响到下一道工序，甚至会影响设备的成品率和可靠性。晶片生产的每一个过程的潜在的污染可能会导致产生缺陷和设备故障，人工清洗效率低，还容易造成破裂。硅片超声波清洗机的出现很好的解决了这个问题。下面超晋达超声波清洗机小编为大家简单介绍一下。

       硅片的污染可以从我们平时的生活应用出发，最典型的例子就是我们的电脑应用，比如主机箱在长时间不清晰之后，就很容易沾上灰尘、头发等之类物体，这个原因主要也是因为硅片的属性决定，因为硅片上含有的铁离子，极易吸附各种杂质，如颗粒、有机杂质、无机杂质等，造成硅片变花、发黑等现象，而这里面也涉及到一个高净化的愿意呢，清洗难度也会比较高。

       超声波清洗主要靠超声波空化作用，超声波发生器产生高频震荡信号，经换能器转成机械振动，以纵波的形式在清洗液体中辐射，清洗液中会形成数以万计的微小气泡，当超声波以正压和负压交替在液体中时，这些气泡迅速增大而后闭合破裂，这就是超声波空化。气泡破裂后产生上千个大气压，不断冲击硅片表面，使水一次又一次的进行洗刷，让硅片表面的污垢剥落，在很短的时间里，无数次的清洗了硅片，从而达到高效清洗的目的。

       硅片超声波清洗机工艺流程：

1、切割片超声波清洗机

①超声波抛动粗洗→②超声波抛动清洗→③超声波抛动漂洗→④超声波抛动漂洗→⑤纯水喷淋抛动漂洗→⑥超声波抛动漂洗

2、研磨片超声波清洗机

①热纯水超声抛动清洗→②热碱水超声抛动清洗→③热纯水超声抛动清洗→④热纯水超声抛动清洗→⑤纯水喷淋抛动漂洗→⑥热酸超声抛动清洗→⑦热纯水超声抛动漂洗→⑧热纯水超声抛动漂洗

3、外延片超声波清洗机

①纯水超声抛动清洗→②清洗剂超声抛动清洗→③纯水喷淋漂洗→④清洗剂超声抛动清洗→⑤清洗剂超声抛动清洗→⑥纯水喷淋漂洗→⑦纯水超声抛动漂洗→⑧纯水超声抛动漂洗→⑨纯水超声抛动漂洗

       以上就是超晋达超声波清洗机为大家分享的关于“硅片超声波清洗机的优势”，希望对大家的使用能有更好的帮助。注意好超声波清洗机安全操作细节，这样既不会损耗元件，也不会造成清洗不干净。

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